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不限一周内两周内一个月内三个月内半年内
中科院微电子所在先进工艺仿真方向取得重要进展
	11/08/2024，光纤在线讯，环栅晶体管（GAAFET）与传统FinFET工艺流程相比，引入了内侧墙（innerspacer）、沟道释放（channelrelease）等工艺，必须通过对叠层结构的精确横向刻蚀来实现。高精度刻蚀工艺控制是三维集成电路制造面临的最大挑战之一，其工艺机理和调控机制在科...... 2024-11-08 11:29:51