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康宁推出新型光刻透镜材料

光纤在线编辑部  2006-02-21 19:37:22  文章来源：综合整理  版权所有,未经许可严禁转载.

导读：

2/21/2006，康宁公司今天推出针对半导体工艺光刻193nm 偏振光应用的高纯度光学透镜材料HPFS8650。HPFS8650对193nm的激光伤害有足够的抵抗力，具有低的偏振导致双折射，低compaction, 没有expansion等优越性能。此外这种材料具有改进的折射率一致性，可以保证稳定，可预期的工作性能。
关键字： 康宁
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