光迅滤光片荣获05年国家进步二等奖

1/11/2006,新春佳节将至，到处都是一片丰收景象。2006年元月9日，2005年度国家科学技术大会在北京人民大会学隆重开幕，胡锦涛，吴邦国，温家宝等国家领导人出席大会祝贺，并给获奖项目颁奖。武汉邮电科学院光迅公司研发生产的“实用化介质膜滤光片型DWDM器”荣获国家科学技术进步奖二等奖。武汉光迅公司胡强高代表项目组出席大会，聆听国家领导人的报告并接受奖励。这是该公司获得的又一次国家奖。
密集光波分复用（DWDM）技术是目前光通信技术的热点。DWDM加EDFA的方式能充分利用EDFA的带宽，是当前公认的最直接最有效的提高光通信容量方法。DWDM技术在国内外处于推广应用阶段。其应用已经从长途干线网普及至城域网和无线网等。


  DWDM系统的核心光学器件是复用/解复用器（Multiplexer/Demultiplexer），其功能是采用光学方法将密集间隔的各波长（信道）复用至一根光纤传输，或将已复用的各波长（信道）分开，或实现光波长（信道）的分插复用。后者通常称为光分插复用器（Optical Add/Drop Multiplexer，简称OADM）。


  目前有光纤光栅加环行器，全光纤双锥熔锥耦合（Fused Biconically Tapered），阵列光波导（Array Waveguide），及薄膜窄带滤光器（Thin film filters）等四种方案制作DWDM器件。


  介质膜窄带滤光片加微光透镜耦合方式的DWDM是目前较富竞争力的器件。介质膜窄带滤光片制作工艺极其成熟。它除透过率高、带宽窄外，其中心波长——温度系数可小于1pm/℃，甚至在0~80℃温度范围内波长无漂移。DWDM系统市场的日益增长也使介质膜窄带滤光片的批量成本降低。另外，这种方案还可利用成熟的微光透镜耦合技术。由于性能及成本上的优势，介质膜窄带滤光片型器件在波长间隔为100 GHZ以上的DWDM系统中早已为市场所普遍接受。近年来，由于interleaver技术的成熟，100 GHZ的介质膜窄带滤光片型器件也普遍用来制作50 GHZ波长间隔的复用/解复用器。


  根据美国KMI公司Neil G. Dunay预测，在今后5年里，DWDM系统的市场需求将以年均23%增长率增长，到2004年将达到74亿美元。
武汉光迅科技有限责任公司2000年承担了国家“863计划”研究项目《介质膜滤光片型DWDM器件研究》完全依靠自己的技术力量，经过一年的努力，研制成功4×200 GHZ、8×200GHZ、32×100 GHZ、40×100 GHZ、160×50 GHZ DWDM器件，除满足国内需求外，并在此派产生200 GHZ、100 GHZ单信道和双信道OADM器件，国内率先批量投放市场，70%出口北美、欧洲及日本，国内市场占有率达70%，国际市场占有率20%，累计销售额2亿元，创汇1500余万美元。项目申请授权专利2项，申请授理发明和实用新型专利4项。以此项目为基础，起草了一项国家标准和两项行业标准。具有自主知识产权。


  项目2000年12月7日通过863-307主题评审专家组的评审，2002年12月17日通过湖北省科技成果鉴定，认为：项目完成了DWDM和OADM器件的国产化、实用化，具有自主的知识产权和规模化生产能力；器件整体水平达到国际同类产品的先进水平。


  项目荣获2004年度中国通信学会科技进步一等奖，经过层层选拔、推荐评审，最终荣获此次国家科技进步二等奖。
项目产品2001年12月荣获2001年度国家重点新产品证书。
目前，武汉光迅公司已建成一条年生产能力120000信道DWDM器件生产线，成为该公司出口的重点产品，也是光迅公司一个新的经济增长点。