韩国GIST宣布开发出新一代热基干法工艺的尖端半导体制造技术

2/17/2025，光纤在线讯，据韩联社 2月17日光州报道，韩国光州科学技术研究所（GIST）17日宣布，其研究团队成功开发了一种环保高效的下一代半导体制造技术。该技术由GIST化学系洪锡元教授团队与浦项加速器研究所（PAL）黄灿国博士团队联合研发，采用热基干法工艺，克服了现有湿法工艺的局限性。

       传统的湿法工艺在制造精细半导体电路图案时，常因液体化学品的表面张力导致图案崩溃或质量问题。此外，湿法工艺需要昂贵的专用设备，并使用有害化学物质，对环境造成负担。新开发的干法工艺通过减少有害物质的使用，不仅防止了图案塌陷，还实现了高分辨率图案，并简化了制造步骤，提高了生产效率。研究团队利用自主开发的极紫外（EUV）反应聚合物材料光刻胶，成功在硅晶片上雕刻出80纳米的精细纳米图案，并申请了两项国际专利。这一技术有望在提升下一代电子设备性能方面发挥关键作用。

      
整理来源：邮电设计技术
原文链接：https://www.yna.co.kr/view/AKR20250217043600054?section=industry/technology-science