ASML延迟向中芯国际交付EUV光刻机

4/02/2020，光纤在线讯，近日，ASML对外宣布： “受到新冠病毒疫情影响，公司提供给武汉以及其它地区客户的EUV设备出货，因旅游限制而被延迟，同时公司的供应链出现了问题，目前已经解决”。ASML这里提到的EUV设备的武汉客户就是中芯国际。中芯国际在武汉有一座12英寸晶圆厂，并且此前国内也只有中芯国际向ASML订购了一台EUV光刻机。



早在2018年初，ASML与中芯国际正式达成了首台最先进的EUV光刻机的采购订单，价值约1.2亿美元，原本预计将于2019年底交付，2020年正式安装，今年1月份，ASML CEO对外表示，已经向荷兰政府提交了中国客户出货的申请，但一直在审批，导致迟迟无法交付。很多媒体都认为这是受到了美国政府的干预。虽然，荷兰政府否认了这一说法。

ASML首席执行长Peter Wennink表示：“到目前为止，Covid-19的爆发对ASML的生产能力影响有限，此外，从客户的角度来看，今年我们的系统需求没有减少。”

 

他解释说，第一季度的短缺背后有三个关键的影响。第一起事件与延迟向武汉运送更传统的深紫外线(DUV)光刻设备有关，武汉是新型冠状病毒爆发的最初中心，那里的运输和旅行限制已经实施了数月。
Peter Wennink补充道：“其次，我们的供应链出现了一些问题，目前已经得到了解决。再加上第一款NXE:3400C (EUV)最终配置的周期比最初计划的要长，这导致了一些发货延迟。”

据了解，中芯国际的7nm以下制程将使用ASML供应的这台EUV光刻机，目前中芯14nm已经进入量产，12nm也已经有了重大突破。

之前中芯国际联席CEO梁孟松博士首次公开了中芯国际N+1、N+2代工艺的情况，表示最新研发的N+1工艺相比自家研发的14nm工艺成本更低，性能提升20％、功耗降低57％、逻辑面积缩小63％，SoC面积缩小55％，而且最重要的是，这种工艺无需光刻机就能够生产出7nm芯片。意味着，中芯国际的N+1工艺其实完全可以媲美台积电的7nm工艺，只是在性能上还差一丢丢。由于成本降低，搭载N+1工艺芯片的手机或将成为新一代的“性价比之王”。之后的N+2工艺性能和成本都更高一些。虽然N+1工艺没有用到ASML的极紫外光刻机，也无需进口任何昂贵设备，但N+2工艺还是需要EUV光刻机进行技术支持的。中芯国际目前正计划先逐步完善N+1技术，然后再进一步探索N+2技术，但此时ASML延迟向中芯国际交付EUV光刻机，应该会在一定程度上影响N+2技术的研发进程。但如果可以向其他国内厂商交付EUV光刻机，同样向中芯国际交付也不会存在问题。

据悉，受新冠疫情的影响，ASML也下调了对于今年1季度的营收预期，减少了1/4左右，预期营收为24-25亿美元。而根据ASML此前公布2019年财报显示，2019年交付了26台EUV光刻机，预计2020年交付35台EUV光刻机，2021年则会达到45台到50台的交付量，是2019年的两倍左右。ASML表示新冠病毒疫情没有对他们的光刻机生产制造带来影响，需求也没发生变化，只是供应链被限制，导致交付延期。ASML称一季度无法确认的订单将转移到今年二、三季度中。

希望在疫情结束后，荷兰政府向ASML发放新的出口许可证后，ASML能及时向中芯国际交付EUV光刻机。如果不能，那么我们可以名正言顺地怀疑背后有美国在阻挠。