OIF 18日晚举办聚焦下一代112Gbps电接口网络研讨会

6/02/2020，光纤在线讯，光互联论坛OIF宣布将在6月18日美国太平洋时间上午7点/东部时间上午十点/中国时间18日晚上十点举办名为“Cu(see you) Beyond 112Gbps”（相见在112Gbps之外）的网络研讨会。该免费研讨会由Lightwave和电子设计主办，将邀请来自Arista, Broadcom, 思科，Facebook， 谷歌，Innovium, Intel和TE等公司的专家进行发言和讨论。

OIF主席，来自TE Connectivity的Nathan Tracy表示，OIF在开发电接口标准方面有着悠久的历史，OIF的CEI规范已经成为几乎所有工业标准组织的基础。毫无疑问现在是需要超越112Gbps电接口的时代，OIF肯定不会缺位。这次网络研讨会是OIF会员参与这个话题的公开讨论的一个重要的机会。 

OIF指出，与会参与者将会从终端用户，设备厂商，器件厂商那里获得关于下一代可互通的电接口速率，技术挑战和选项等方面的知识和看法。与会专家将会讨论诸如112Gbps是电接口的极限吗？224Gbps可能出现吗？可用的距离是什么？铜线还有前途吗？等等问题。OIF还将简要介绍关于112Gbps标准的工作进展。
 
研讨会的上半环节将聚焦工业界对于下一代电接口的看法和需求，趋势以及云应用。下半环节则围绕相关技术讨论以及可能的方向的讨论，如何实现密度，功耗，距离和风险的折衷。研讨会将持续2个半小时。免费报名链接如下：https://event.on24.com/eventRegistration/EventLobbyServlet?target=reg20.jsp&partnerref=ws&eventid=2398180&sessionid=1&key=04559897C4724857A74DA34971320FEA®Tag=&sourcepage=register