三星削减EUV引进计划，与ASML的联合研究中心陷入困境

8/21/2024，光纤在线讯，2023年12月12日（当地时间），韩国总统尹锡悦在荷兰国王威廉亚历山大、三星电子董事长李在镕、SK集团董事长崔泰源和ASML时任首席执行官彼得·温尼克的陪同下，访问了位于荷兰费尔德霍芬的ASML总部。在此次访问中，尹锡悦表示希望加强韩荷半导体联盟，并表示：“我认为开放和国际主义是促进科学和工业发展的因素。”

     在那里，三星电子和ASML签署了一份谅解备忘录（MOU），将在首都地区建立一个EUV联合研究中心。该协议是韩荷半导体合作仪式的一部分，仪式在韩国总统尹锡悦对荷兰进行国事访问之际在ASML总部举行。然而，仅仅六个月后，合作计划就大幅缩减。

     今年1月，在半导体行业公开论坛上，尹锡悦重申了对国际联合研究的支持，并回顾了自己访问ASML总部的情况。然而，上个月初，三星电子通知ASML，将减少计划引进的下一代高NA EUV光刻设备的数量。这一决定是在两家公司高管的一次会议上传达的，预计他们很快就会开始修改相关合同的过程。

     三星电子最初计划在未来十年内购买三台以上的下一代EXE:5200、EXE:5400和EXE:5600。然而，该公司现在决定只引进EXE:5200，并将在未来重新考虑引进后续版本。这一决定是在副董事长全永铉被任命为DS（设备解决方案）部门的新负责人并审查了正在进行的项目和投资之后做出的。

     一位知情人士表示：“在京畿道华城市购买土地、建设研究设施以及设计和审批的过程正在进行中。但是，由于三星决定减少设备引进，相关过程已经完全停止。”该知情人士补充说：“联合研究中心是在其他地点设立，还是取消设立，将在未来的讨论中决定。”

     当时担任DS部门负责人、现任未来业务规划团队和SAIT（三星综合技术研究院）负责人的Kyung Kye-hyun强调了通过联合研究建立High NA EUV合作关系的重要性。他表示：“三星现在对‘High NA EUV’有技术优先权”，并补充说：“我认为我们已经创造了长期在DRAM或逻辑半导体中充分使用High NA EUV的机会。”

     尽管计划有所修改，但三星电子相关人士表示，“引进ASML High NA EUV设备的计划没有变化”，并保证“两家公司的研发中心也将建立在最佳位置”。

     三星电子与ASML的合作最初被视为一项战略举措，旨在确保先进EUV光刻设备的供应，这对于先进半导体的大规模生产至关重要。ASML是全球唯一一家生产EUV光刻设备的公司，是半导体行业的重要参与者。此次合作的缩减预计将影响国内半导体生态系统和相关行业。

     一位业内人士表示，“如果两家公司签署的合同得以执行，三星电子不仅能够领先竞争对手引进最先进的EUV设备，而且还有机会密切观察最先进EUV技术的开发过程。如果计划被修改，这些机会将不复存在。”

     减少设备引进和停止研发中心建设的决定反映了三星在副董事长全永铉上任后半导体业务战略的重大转变。预计此举将对全球半导体供应链和行业内的竞争态势产生更广泛的影响。

来源：爱集微