半导体设备公司篇：应用材料公司和拉姆研究
发布时间：2020-02-16 21:28:05 热度：7232
2/16/2020， 以营业额来算，美国应用材料公司AMAT是全球十大半导体设备商之首。凭借其在规模生产的条件下可以在原子级层面改变材料的技术，全球几乎每一个新生产的芯片和先进显示器的背后都有应用材料公司的身影。该公司的产品线几乎覆盖除光刻外半导体生产每一道工艺。
应用材料创业地点
1967年11月10日，应用材料公司成立于美国加州山景城（Mountain View）处一处很小的工业厂房中。第二年该公司就推出AMS2600 Silox reactor，第一套可以在晶圆表面淀积SiO2薄膜的设备。同年推出的AMV800D垂直外延reactor系统支持同时处理8片2寸wafer。1969年，他们推出第一套辐射加热的CVD系统。1970年，推出首套针对LED显示器件的商用淀积系统。1972年实现IPO上市。2年后他们搬入位于Santa Clara的新厂房。1975年，全球半导体工业遭遇危机。在新总裁James C.Morgan的带领下，应用材料公司淘汰了若干不盈利的业务，重新聚焦半导体设备，不到一年，他们就实现了17%的销售额增长。那一年，他们同仙童公司合资成立一家生产多晶硅的公司。1976年，他们推出首套等离子CVD系统。1979年设立日本公司。1980年收购Lintott工程公司的离子注入业务。 1979年，应用材料日本分公司成立，正式进入亚洲市场。1981年，应用材料公司推出AME8100刻蚀系统。 1984年，应用材料公司在中国开始业务并且成为第一家进入中国的外资半导体生产设备供应商。1987年，应用材料公司推出Precision 5000 CVD系统，帮助公司成为单晶圆，多腔制造的领导企业。1990年代，应用材料公司积极进入平板显示工业，并率先成为300mm晶圆设备的提供商。1994年，推出PVD(物理气相沉积）产品：Endura VHP PVD系统。 2002年，应用材料公司在美国加利福尼亚硅谷设立梅丹（Maydan）技术中心。2016年，推出革命性的选择性刻蚀系统Producer® Selectra™系统。
应用材料公司的创始人Michael A. McNeilly出生于美国蒙大拿州，年轻时曾经是位橄榄球和篮球运动员，后来进入华盛顿州的Gonzaga大学继续打球和从事癌症研究。研究生毕业后他加入美国联合碳化物公司参与三氯氢硅业务。这种化学材料是生产多晶硅的重要原料。就这样他开始和半导体工业粘上边。在联合碳化物公司，他因成功找到检验三氯氢硅品质的办法而声名鹊起。1964年他参与参与一家叫Apogee的小公司，为半导体工业提供化学产品。这段期间他得以和半导体行业的先驱仙童公司来往频繁，成为他们的供应商之一。也是在这段时间里，他得以和包括戈登摩尔在内的半导体行业先驱们建立密切的个人关系。1967年，在他28岁那年，就在他家的厨房餐桌上他创立了应用材料公司。包括戈登摩尔在内许多半导体大咖都是他的投资人。
值得一提的是，今天中国半导体设备的龙头企业上海中微的创办人尹志尧曾经就是美国应用材料公司的副总裁。
讲完应用材料，顺便提下在半导体设备排行榜上排名第三的拉姆研究（也叫泛林研发）。他们是向全球世界半导体产业提供晶圆制造设备和服务的主要供应商之一。该公司由美籍华人林杰屏（David K. Lam）1980年创立于美国加州Santa Clara，现在总部位于美国加州弗里蒙特，全职雇员超过7000人。
1981，拉姆研究发布发布第一款产品——离子刻蚀设备AutoEtch 480;1984年，首次公开发行IPO，登陆纳斯达克；1985年，发布AutoEtch 590；1987年，将总部搬到弗里蒙特Cushing Parkway，发布Rainbow 4400 Etch 系列；1988年，发明单晶圆旋转清洗系统；1990年，进入中国大陆市场；1991年推出SP系列旋转清洗系统；1995年又发布首个双频介质刻蚀产品；1996年发布HDP-CVD系统；2000年发布2300 刻蚀平台和VECTOR PECVD系统；2004年发布第一代Kyyo和Flex刻蚀产品；2004年发布ALTUS tungsten barrier CVD系统；2012年，与加州上市公司诺发系统Novellus合并；2015年，收购同业科磊半导体（KLA-Tencor ）。
林杰屏博士祖籍广东花县。生于越南西贡堤岸。1960 年与其弟到香港培正中学学习。毕业后赴加拿大深造。1967年在多伦多大学电机物理系毕业，去美国麻省理工学院攻读化学工程。1974年获博士学位。在得克萨斯州仪器公司任职1年后，转到施乐公司。1976年又转到惠普公司，任研究部门主管。 在创建拉姆研究之后，1983年他还创建了一家电脑终端公司Link科技，后来这家公司被WYSE收购。
资料来源：
AMAT网站
http://www1.semi.org/en/semi-oral-history-interview-michael-mcneilly
应用材料创业地点
1967年11月10日，应用材料公司成立于美国加州山景城（Mountain View）处一处很小的工业厂房中。第二年该公司就推出AMS2600 Silox reactor，第一套可以在晶圆表面淀积SiO2薄膜的设备。同年推出的AMV800D垂直外延reactor系统支持同时处理8片2寸wafer。1969年，他们推出第一套辐射加热的CVD系统。1970年，推出首套针对LED显示器件的商用淀积系统。1972年实现IPO上市。2年后他们搬入位于Santa Clara的新厂房。1975年，全球半导体工业遭遇危机。在新总裁James C.Morgan的带领下，应用材料公司淘汰了若干不盈利的业务，重新聚焦半导体设备，不到一年，他们就实现了17%的销售额增长。那一年，他们同仙童公司合资成立一家生产多晶硅的公司。1976年，他们推出首套等离子CVD系统。1979年设立日本公司。1980年收购Lintott工程公司的离子注入业务。 1979年，应用材料日本分公司成立，正式进入亚洲市场。1981年，应用材料公司推出AME8100刻蚀系统。 1984年，应用材料公司在中国开始业务并且成为第一家进入中国的外资半导体生产设备供应商。1987年，应用材料公司推出Precision 5000 CVD系统，帮助公司成为单晶圆，多腔制造的领导企业。1990年代，应用材料公司积极进入平板显示工业，并率先成为300mm晶圆设备的提供商。1994年，推出PVD(物理气相沉积）产品：Endura VHP PVD系统。 2002年，应用材料公司在美国加利福尼亚硅谷设立梅丹（Maydan）技术中心。2016年，推出革命性的选择性刻蚀系统Producer® Selectra™系统。
应用材料公司的创始人Michael A. McNeilly出生于美国蒙大拿州，年轻时曾经是位橄榄球和篮球运动员，后来进入华盛顿州的Gonzaga大学继续打球和从事癌症研究。研究生毕业后他加入美国联合碳化物公司参与三氯氢硅业务。这种化学材料是生产多晶硅的重要原料。就这样他开始和半导体工业粘上边。在联合碳化物公司，他因成功找到检验三氯氢硅品质的办法而声名鹊起。1964年他参与参与一家叫Apogee的小公司，为半导体工业提供化学产品。这段期间他得以和半导体行业的先驱仙童公司来往频繁，成为他们的供应商之一。也是在这段时间里，他得以和包括戈登摩尔在内的半导体行业先驱们建立密切的个人关系。1967年，在他28岁那年，就在他家的厨房餐桌上他创立了应用材料公司。包括戈登摩尔在内许多半导体大咖都是他的投资人。
值得一提的是，今天中国半导体设备的龙头企业上海中微的创办人尹志尧曾经就是美国应用材料公司的副总裁。
讲完应用材料，顺便提下在半导体设备排行榜上排名第三的拉姆研究（也叫泛林研发）。他们是向全球世界半导体产业提供晶圆制造设备和服务的主要供应商之一。该公司由美籍华人林杰屏（David K. Lam）1980年创立于美国加州Santa Clara，现在总部位于美国加州弗里蒙特，全职雇员超过7000人。
1981，拉姆研究发布发布第一款产品——离子刻蚀设备AutoEtch 480;1984年，首次公开发行IPO，登陆纳斯达克；1985年，发布AutoEtch 590；1987年，将总部搬到弗里蒙特Cushing Parkway，发布Rainbow 4400 Etch 系列；1988年，发明单晶圆旋转清洗系统；1990年，进入中国大陆市场；1991年推出SP系列旋转清洗系统；1995年又发布首个双频介质刻蚀产品；1996年发布HDP-CVD系统；2000年发布2300 刻蚀平台和VECTOR PECVD系统；2004年发布第一代Kyyo和Flex刻蚀产品；2004年发布ALTUS tungsten barrier CVD系统；2012年，与加州上市公司诺发系统Novellus合并；2015年，收购同业科磊半导体（KLA-Tencor ）。
林杰屏博士祖籍广东花县。生于越南西贡堤岸。1960 年与其弟到香港培正中学学习。毕业后赴加拿大深造。1967年在多伦多大学电机物理系毕业，去美国麻省理工学院攻读化学工程。1974年获博士学位。在得克萨斯州仪器公司任职1年后，转到施乐公司。1976年又转到惠普公司，任研究部门主管。 在创建拉姆研究之后，1983年他还创建了一家电脑终端公司Link科技，后来这家公司被WYSE收购。
资料来源：
AMAT网站
http://www1.semi.org/en/semi-oral-history-interview-michael-mcneilly
