重新定义你的PIC设计流程 Luceda 3.10线上发布会圆满落幕
发布时间：2023-09-21 21:42:12 热度：1380
9/21/2023，光纤在线讯， “重新定义你的PIC设计流程—Luceda 3.10新品发布会”如约映献，在光纤在线视频号直播间完美落幕！
硅基光电子技术作为当下光通信企业不可逾越一种新技术储备，随着当下400G/800G/1.6T硅光芯片面向商业化的产品推出，本场发布会倍受业界关注，为时1小时的直播，吸引了1600+人员参与，8万+点赞数，评论交流更是再创新高，860+条评论互动参与。
此次发布会，是Luceda 3.10新品首次面向市场全面露出，从功能变化，设计理念，版图引擎升级等多方面全方位揭开了Luceda 3.10的神秘面纱！此次发布也会是光通信行业内首次采用视频直播的方式进行，在此，感谢Luceda对光纤在线的信任，愿意与光纤在线一起尝试一种新型的市场活动。
首先在直播间，光纤在线直播主持人询问Luceda中国区的总经理曹如平和中国市场的渊源以及取得的成果。曹博士表示：Luceda一直能感受到中国在硅基光电子领域的发展呈现出蓬勃的生机，也因此非常重视中国市场，积极参与到中国市场发展的每一个节点中。早在2014年，Luceda IPKISS刚开始商业化的时候，就已经拥有了中国客户，从最早联合高校的交流合作，到后来的上海工研院、cumec、中国科学院微电子所等流片厂都第一时间加入了Luceda 全球PDK的版图中，以及之后硅基光电子芯片封测厂，都与Luceda有着深厚的渊源。
2021年，Luceda设立了中国分公司，更好地为中国客户提供高质量本土化的平台，更加深了与设计、开发人员的沟通。Luceda 3.10新版本最大的亮点--原理图图形化交互工具IPKISS Canvas，正是源于中国本土客户的反馈。
线上很多观众是Luceda的忠实用户，迫不急待地期望看到Luceda 3.10的新功能新亮点。我们邀请曹博士为大家揭开3.10的两大革新：原理图可设化工具和版图引擎的全面升级。
IPKISS Canvas
Luceda 3.10最大的亮点就是新增了“原理图图形化交互工具IPKISS Canvas“，让用户更轻松，更高效，更安心地完成设计体验，加速PIC设计流程。
首先，IPKISS Canvas采用Schematics editor 促进团队沟通，清晰地展示设计思路，轻松地讨论技术细节，大大提升了团队的协作效率。
第二是广泛联合了全球的流片厂资源，软件平台拥有丰富的PDK器件库，只需要拖动所需组件即可完成原理图设计，同时可以将设计图一键转换为代码，切换回代码界面确认最终版图及仿真结果，解决了SDL图理驱动版图上升的难度，
第三则实现了LVS版图与原理图的对比，完成设计验证。包括检查线路的连通性，并标注版图的关键信息，包括波导长度、损耗等非常直观展示，并支持版图输出原理图验证现有设计。
版图引擎全面升级
Luceda 3.10同时对于版图引擎进行了全面升级，速度提升接近3倍，更有丰富的自动化布线功能。新的电线布线函数，灵活调整布线角度，使用更加灵活；新的参数化形状算法，增加设计自由度；助力光芯片企业高效完成复杂芯片开发任务。
在曹博士介绍完新功能之后，直播的聊天区被 “IPKISS Canvas”罢屏，足见业界同仁对于Luceda 3.10的新版本极为期待。为了让大家更深切地感受到新版本的便利，我们还邀请了NEOIC和Sicoya的工程师分享了他们的使用感受，他们已经成为Luceda 3.10的第一批使用者，来看看这些用户都是怎么评价Luceda 3.10的？
The transition between different steps of the design flow is smooth. The process of importing the PDK into IPKISS Canvas proves to be convenient, further enhanced by the ability to automatically launch Canvas from IPKISS Python code. These newly integrated features have facilitated collaboration with colleagues who are less proficient in coding. By leveraging Canvas, colleagues can generate schematics effortlessly, allowing us to subsequently fine-tune layouts using code.
设计流程中不同步骤之间的过渡非常流畅。将PDK导入IPKISS Canvas的过程非常方便，而且通过能够自动从IPKISS Python代码中启动IPKISS Canvas，也可以从原理图直接生成版图然后版图工程师可以使用代码对布局进一步微调。这些新功能的引入使得团队之间的协作更加容易和轻松。
--Siyao Chang，PDK Manager at NOEIC
IPKISS Canvas helped me simplify the functional verification of component connections. Its back-annotation feature enables flexible extraction of crucial layout parameters, so that I can quickly assess the layout accuracy and ensure alignment with design intentions. This significantly reduces design errors and enhances design iteration efficiency.
IPKISS Canvas帮助我快速检查器件之间的连接性问题，其反注释功能可以灵活提取关键布局参数的，可以迅速帮助我评估版图布局的准确性，并确保与设计想法的一致。这大大降低了设计错误，并提高了设计迭代的效率。
--Liam Han，Senior Designer at Sicoya
I believe Canvas has the potential to change the landscape in PIC mask layout and design. The concept of creating a schematic on Canvas which can be translated directly into a corresponding mask layout design is brilliant. It has already saved me a significant amount of time and effort and I'm grateful to Luceda for developing such an awesome tool!
我相信Canvas有潜力改变光集成电路(PIC)掩模布局和设计领域的格局。在Canvas上创建原理图，可以直接转化为相应的掩模布局设计的概念非常出色。它已经为我节省了大量的时间和精力，我对Luceda开发这样出色的工具表示感激！
--Bassem Tossoun，Senior Research Scientist at HPE
Prior to starting a layout, customers typically provide Spark Photonics with PowerPoint or PDF schematics, which are inefficient for capturing PIC schematics or interfacing with foundry PDKs, and often need to be reworked due to erroneous capture. By using IPKISS Canvas, a dedicated PIC schematic capture and verification tool, our customers can ensure that their schematics are correct and true to their targeted PDK, thereby streamlining the design process and facilitating collaborative functionality checks as the layout advances.
在开始版图布局之前，客户通常会向Spark Photonics提供PowerPoint或PDF原理图，但这种方式不太适用于捕捉光电子芯片(PIC)的原理图以及与工厂设计套件(PDK)进行直接匹配，通常需要重新处理，这种处理方式容易导致人为的失误。使用IPKISS Canvas这款专用的PIC原理图捕捉和验证工具，我们的客户不但可以确保他们的原理图的正确性，而且可以确保设计能够匹配目标PDK。版图与原理图强耦合的协同设计框架，可以使设计流程更加丝滑。
--Kevin McComber， CEO at Spark Photonics
IPKISS Canvas has given a great push to the PIC design process in the EU SiPho-G project by providing an integrated platform for seamless collaboration between teams. We were able to share schematic designs effortlessly with the Luceda team, enabling them to translate them into manufacturable layouts using IPKISS code. The accurate design representation, verification capabilities and smooth transition to layout implementation make IPKISS Canvas an invaluable tool for efficient and effective photonic integrated circuit design.
在EU SiPho-G项目中，IPKISS Canvas为光集成电路(PIC)设计过程提供了强大的支持，通过提供一个集成平台，实现了团队之间的无缝协作。我们能够轻松地与Luceda团队分享原理图设计，他们能够使用IPKISS代码将其转化为可制造的版图设计。准确的设计与验证能力以及版图和原理图间的流畅转换，使IPKISS Canvas成为我们高效的，不可或缺的光电子芯片设计开发工具。
--Apostolos Tsakyridis，Researcher at AUTH
通过本次活动，业界同仁不仅进一步对硅光芯片设计平台有了更深的了解，对于PIC流程设计、以及业界在硅光芯片设计的进展方面有了更清晰的了解。我们也相信，Luceda 3.10这样一款新增为中国工程师特色设计的芯片软件设计平台，必将加速硅基光电子技术的商业化进程！
随后，直播活动在与Luceda同仁交流，线上提问，以及抽奖的环节交互进行，最后有6位幸运观众获得了由Luceda送出的京东购物卡+Luceda周边礼品盲盒。未来欢迎更多的业界同仁与我们一起尝试创新的市场活动，光纤在线也期待通过直播可以为业界同仁带来更多的行业信息，期待您在直播间有所收获，期待CFOL直播间给您带来好运。
如果您期望获取并尽快上手Luceda 3.10版软件，那么这场活动一定不能错过。
9月26日14:30-16:30，将会有一场Luceda的线上培训课程，欢迎扫描如下二维码，与Luceda的助理“小曦”联系报名，开启您的高效PIC设计。
硅基光电子技术作为当下光通信企业不可逾越一种新技术储备，随着当下400G/800G/1.6T硅光芯片面向商业化的产品推出，本场发布会倍受业界关注，为时1小时的直播，吸引了1600+人员参与，8万+点赞数，评论交流更是再创新高，860+条评论互动参与。
此次发布会，是Luceda 3.10新品首次面向市场全面露出，从功能变化，设计理念，版图引擎升级等多方面全方位揭开了Luceda 3.10的神秘面纱！此次发布也会是光通信行业内首次采用视频直播的方式进行，在此，感谢Luceda对光纤在线的信任，愿意与光纤在线一起尝试一种新型的市场活动。
首先在直播间，光纤在线直播主持人询问Luceda中国区的总经理曹如平和中国市场的渊源以及取得的成果。曹博士表示：Luceda一直能感受到中国在硅基光电子领域的发展呈现出蓬勃的生机，也因此非常重视中国市场，积极参与到中国市场发展的每一个节点中。早在2014年，Luceda IPKISS刚开始商业化的时候，就已经拥有了中国客户，从最早联合高校的交流合作，到后来的上海工研院、cumec、中国科学院微电子所等流片厂都第一时间加入了Luceda 全球PDK的版图中，以及之后硅基光电子芯片封测厂，都与Luceda有着深厚的渊源。
2021年，Luceda设立了中国分公司，更好地为中国客户提供高质量本土化的平台，更加深了与设计、开发人员的沟通。Luceda 3.10新版本最大的亮点--原理图图形化交互工具IPKISS Canvas，正是源于中国本土客户的反馈。
线上很多观众是Luceda的忠实用户，迫不急待地期望看到Luceda 3.10的新功能新亮点。我们邀请曹博士为大家揭开3.10的两大革新：原理图可设化工具和版图引擎的全面升级。
IPKISS Canvas
Luceda 3.10最大的亮点就是新增了“原理图图形化交互工具IPKISS Canvas“，让用户更轻松，更高效，更安心地完成设计体验，加速PIC设计流程。
首先，IPKISS Canvas采用Schematics editor 促进团队沟通，清晰地展示设计思路，轻松地讨论技术细节，大大提升了团队的协作效率。
第二是广泛联合了全球的流片厂资源，软件平台拥有丰富的PDK器件库，只需要拖动所需组件即可完成原理图设计，同时可以将设计图一键转换为代码，切换回代码界面确认最终版图及仿真结果，解决了SDL图理驱动版图上升的难度，
第三则实现了LVS版图与原理图的对比，完成设计验证。包括检查线路的连通性，并标注版图的关键信息，包括波导长度、损耗等非常直观展示，并支持版图输出原理图验证现有设计。
版图引擎全面升级
Luceda 3.10同时对于版图引擎进行了全面升级，速度提升接近3倍，更有丰富的自动化布线功能。新的电线布线函数，灵活调整布线角度，使用更加灵活；新的参数化形状算法，增加设计自由度；助力光芯片企业高效完成复杂芯片开发任务。
在曹博士介绍完新功能之后，直播的聊天区被 “IPKISS Canvas”罢屏，足见业界同仁对于Luceda 3.10的新版本极为期待。为了让大家更深切地感受到新版本的便利，我们还邀请了NEOIC和Sicoya的工程师分享了他们的使用感受，他们已经成为Luceda 3.10的第一批使用者，来看看这些用户都是怎么评价Luceda 3.10的？
The transition between different steps of the design flow is smooth. The process of importing the PDK into IPKISS Canvas proves to be convenient, further enhanced by the ability to automatically launch Canvas from IPKISS Python code. These newly integrated features have facilitated collaboration with colleagues who are less proficient in coding. By leveraging Canvas, colleagues can generate schematics effortlessly, allowing us to subsequently fine-tune layouts using code.
设计流程中不同步骤之间的过渡非常流畅。将PDK导入IPKISS Canvas的过程非常方便，而且通过能够自动从IPKISS Python代码中启动IPKISS Canvas，也可以从原理图直接生成版图然后版图工程师可以使用代码对布局进一步微调。这些新功能的引入使得团队之间的协作更加容易和轻松。
--Siyao Chang，PDK Manager at NOEIC
IPKISS Canvas helped me simplify the functional verification of component connections. Its back-annotation feature enables flexible extraction of crucial layout parameters, so that I can quickly assess the layout accuracy and ensure alignment with design intentions. This significantly reduces design errors and enhances design iteration efficiency.
IPKISS Canvas帮助我快速检查器件之间的连接性问题，其反注释功能可以灵活提取关键布局参数的，可以迅速帮助我评估版图布局的准确性，并确保与设计想法的一致。这大大降低了设计错误，并提高了设计迭代的效率。
--Liam Han，Senior Designer at Sicoya
I believe Canvas has the potential to change the landscape in PIC mask layout and design. The concept of creating a schematic on Canvas which can be translated directly into a corresponding mask layout design is brilliant. It has already saved me a significant amount of time and effort and I'm grateful to Luceda for developing such an awesome tool!
我相信Canvas有潜力改变光集成电路(PIC)掩模布局和设计领域的格局。在Canvas上创建原理图，可以直接转化为相应的掩模布局设计的概念非常出色。它已经为我节省了大量的时间和精力，我对Luceda开发这样出色的工具表示感激！
--Bassem Tossoun，Senior Research Scientist at HPE
Prior to starting a layout, customers typically provide Spark Photonics with PowerPoint or PDF schematics, which are inefficient for capturing PIC schematics or interfacing with foundry PDKs, and often need to be reworked due to erroneous capture. By using IPKISS Canvas, a dedicated PIC schematic capture and verification tool, our customers can ensure that their schematics are correct and true to their targeted PDK, thereby streamlining the design process and facilitating collaborative functionality checks as the layout advances.
在开始版图布局之前，客户通常会向Spark Photonics提供PowerPoint或PDF原理图，但这种方式不太适用于捕捉光电子芯片(PIC)的原理图以及与工厂设计套件(PDK)进行直接匹配，通常需要重新处理，这种处理方式容易导致人为的失误。使用IPKISS Canvas这款专用的PIC原理图捕捉和验证工具，我们的客户不但可以确保他们的原理图的正确性，而且可以确保设计能够匹配目标PDK。版图与原理图强耦合的协同设计框架，可以使设计流程更加丝滑。
--Kevin McComber， CEO at Spark Photonics
IPKISS Canvas has given a great push to the PIC design process in the EU SiPho-G project by providing an integrated platform for seamless collaboration between teams. We were able to share schematic designs effortlessly with the Luceda team, enabling them to translate them into manufacturable layouts using IPKISS code. The accurate design representation, verification capabilities and smooth transition to layout implementation make IPKISS Canvas an invaluable tool for efficient and effective photonic integrated circuit design.
在EU SiPho-G项目中，IPKISS Canvas为光集成电路(PIC)设计过程提供了强大的支持，通过提供一个集成平台，实现了团队之间的无缝协作。我们能够轻松地与Luceda团队分享原理图设计，他们能够使用IPKISS代码将其转化为可制造的版图设计。准确的设计与验证能力以及版图和原理图间的流畅转换，使IPKISS Canvas成为我们高效的，不可或缺的光电子芯片设计开发工具。
--Apostolos Tsakyridis，Researcher at AUTH
通过本次活动，业界同仁不仅进一步对硅光芯片设计平台有了更深的了解，对于PIC流程设计、以及业界在硅光芯片设计的进展方面有了更清晰的了解。我们也相信，Luceda 3.10这样一款新增为中国工程师特色设计的芯片软件设计平台，必将加速硅基光电子技术的商业化进程！
随后，直播活动在与Luceda同仁交流，线上提问，以及抽奖的环节交互进行，最后有6位幸运观众获得了由Luceda送出的京东购物卡+Luceda周边礼品盲盒。未来欢迎更多的业界同仁与我们一起尝试创新的市场活动，光纤在线也期待通过直播可以为业界同仁带来更多的行业信息，期待您在直播间有所收获，期待CFOL直播间给您带来好运。
如果您期望获取并尽快上手Luceda 3.10版软件，那么这场活动一定不能错过。
9月26日14:30-16:30，将会有一场Luceda的线上培训课程，欢迎扫描如下二维码，与Luceda的助理“小曦”联系报名，开启您的高效PIC设计。
