康宁推出新型光刻透镜材料

2/21/2006，康宁公司今天推出针对半导体工艺光刻193nm 偏振光应用的高纯度光学透镜材料HPFS8650。HPFS8650对193nm的激光伤害有足够的抵抗力，具有低的偏振导致双折射，低compaction, 没有expansion等优越性能。此外这种材料具有改进的折射率一致性，可以保证稳定，可预期的工作性能。